Skosmos: Products: Fogli di polietilene, di spessore di 20 micrometri o più ed uguale o inferiore a 40 micrometri, destinata alla fabbricazione di pellicole fotoresistenti per semiconduttori o per circuiti stampati

... > di polimeri di etilene > di spessore inferiore o uguale a 0,125 mm > di polietilene di densità relativa > inferiore a 0,94 > Fogli di polietilene, di spessore di 20 micrometri o più ed uguale o inferiore a 40 micrometri, destinata alla fabbricazione di pellicole fotoresistenti per semiconduttori o per circuiti stampati

优选词，正式主题词

3920 10 23Fogli di polietilene, di spessore di 20 micrometri o più ed uguale o inferiore a 40 micrometri, destinata alla fabbricazione di pellicole fotoresistenti per semiconduttori o per circuiti stampati

inferiore a 0,94

CN - Level 5 - CN subheadings (en)

Scannán poileitiléine atá ar tiús 20 micriméadar nó níos mó ach nach mó ná 40 micriméadar, ar mhaithe le táirgeadh scannáin fótafhriotaí a úsáidtear chun leathsheoltóirí nó ciorcaid phriontáilte a mhonarú

爱尔兰语
Scannán poileitiléine atá ar tiús 20 micriméadar nó níos mó ach nach mó ná 40 micriméadar, ar mhaithe le táirgeadh scannáin fótafhriotaí a úsáidtear chun leathsheoltóirí nó ciorcaid phriontáilte a mhonarú
polüetüleenkile paksusega vähemalt 20 mikromeetrit, kuid mitte üle 40 mikromeetri, pooljuhtide või trükkplaatide valmistamisel kasutatava valguskindla kile tootmiseks

爱沙尼亚语
polüetüleenkile paksusega vähemalt 20 mikromeetrit, kuid mitte üle 40 mikromeetri, pooljuhtide või trükkplaatide valmistamisel kasutatava valguskindla kile tootmiseks
Полиетиленов лист, с дебелина 20 микрометра или повече, но непревишаваща 40 микрометра, предназначен за производство на фоторезистивни покрития за полупроводници или печатни платки

保加利亚语
Полиетиленов лист, с дебелина 20 микрометра или повече, но непревишаваща 40 микрометра, предназначен за производство на фоторезистивни покрития за полупроводници или печатни платки
Folia polietylenowa, o grubości 20 mikrometrów lub większej, ale nieprzekraczającej 40 mikrometrów, do produkcji folii fotoodpornych stosowanych do produkcji półprzewodników lub obwodów drukowanych

波兰语
Folia polietylenowa, o grubości 20 mikrometrów lub większej, ale nieprzekraczającej 40 mikrometrów, do produkcji folii fotoodpornych stosowanych do produkcji półprzewodników lub obwodów drukowanych
Polyethylenfolier af tykkelse 20 mikrometer og derover, men ikke over 40 mikrometer, til fremstilling af fotoresistfilm til fremstilling af halvledere eller trykte kredsløb

丹麦语
Polyethylenfolier af tykkelse 20 mikrometer og derover, men ikke over 40 mikrometer, til fremstilling af fotoresistfilm til fremstilling af halvledere eller trykte kredsløb
Polyethylenfolien mit einer Dicke von 20 Mikrometer bis 40 Mikrometer, zum Herstellen von Fotoresist-Filmen für die Halbleiterfertigung oder für gedruckte Schaltungen

德语
Polyethylenfolien mit einer Dicke von 20 Mikrometer bis 40 Mikrometer, zum Herstellen von Fotoresist-Filmen für die Halbleiterfertigung oder für gedruckte Schaltungen
Feuille en polyéthylène, d'une épaisseur de 20 micromètres ou plus mais n'excédant pas 40 micromètres, destinée à la fabrication de film photorésistant pour les semi-conducteurs ou des circuits imprimés

法语
Feuille en polyéthylène, d'une épaisseur de 20 micromètres ou plus mais n'excédant pas 40 micromètres, destinée à la fabrication de film photorésistant pour les semi-conducteurs ou des circuits imprimés
polyeteenikalvot, joiden paksuus on vähintään 20 mutta enintään 40 mikrometriä, valonkestävän kalvon valmistamiseksi puolijohteisiin ja mikropiireihin

芬兰语
polyeteenikalvot, joiden paksuus on vähintään 20 mutta enintään 40 mikrometriä, valonkestävän kalvon valmistamiseksi puolijohteisiin ja mikropiireihin
foliën van polyethyleen met een dikte van 20 of meer doch niet meer dan 40 micrometer, bestemd voor de vervaardiging van fotoresistfilm gebruikt bij de productie van halfgeleiders of van gedrukte schakelingen

荷兰语
foliën van polyethyleen met een dikte van 20 of meer doch niet meer dan 40 micrometer, bestemd voor de vervaardiging van fotoresistfilm gebruikt bij de productie van halfgeleiders of van gedrukte schakelingen
Polyethylenové filmy o tloušťce 20 mikrometrů nebo větší, avšak nepřesahující 40 mikrometrů, k výrobě fotorezistivních filmů používaných pro výrobu polovodičů nebo desek plošných spojů

捷克语
Polyethylenové filmy o tloušťce 20 mikrometrů nebo větší, avšak nepřesahující 40 mikrometrů, k výrobě fotorezistivních filmů používaných pro výrobu polovodičů nebo desek plošných spojů
polietilenski film, debljine 20 mikrometara ili veće, ali ne veće od 40 mikrometara, za proizvodnju foto-postojanog filma za uporabu u proizvodnji poluvodiča ili tiskanih krugova

克罗地亚语
polietilenski film, debljine 20 mikrometara ili veće, ali ne veće od 40 mikrometara, za proizvodnju foto-postojanog filma za uporabu u proizvodnji poluvodiča ili tiskanih krugova
polietilēna plēve ar biezumu 20 mikrometri vai vairāk, bet ne biezāka par 40 mikrometriem, fotorezistentu filmu izgatavošanai, kuras lieto pusvadītāju vai iespiedshēmu ražošanā

拉脱维亚语
polietilēna plēve ar biezumu 20 mikrometri vai vairāk, bet ne biezāka par 40 mikrometriem, fotorezistentu filmu izgatavošanai, kuras lieto pusvadītāju vai iespiedshēmu ražošanā
Polietileno plėvelė, kurios storis ne mažesnis kaip 20 mikrometrų, bet ne didesnis kaip 40 mikrometrų, skirta fotorezisto plėvelių, naudojamų puslaidininkių arba spausdintinių grandinių (schemų) gamybai

立陶宛语
Polietileno plėvelė, kurios storis ne mažesnis kaip 20 mikrometrų, bet ne didesnis kaip 40 mikrometrų, skirta fotorezisto plėvelių, naudojamų puslaidininkių arba spausdintinių grandinių (schemų) gamybai
Pelicule de polietilenă cu o grosime de minimum 20 de microni, dar de maximum 40 de microni, pentru fabricarea peliculelor fotorezistente utilizate la fabricarea semiconductorilor sau a circuitelor imprimate

罗马尼亚语
Pelicule de polietilenă cu o grosime de minimum 20 de microni, dar de maximum 40 de microni, pentru fabricarea peliculelor fotorezistente utilizate la fabricarea semiconductorilor sau a circuitelor imprimate
Riti tal-polietilen, ta’ ħxuna ta’ 20 mikrometru jew iktar iżda li ma taqbiżx l-40 mikrometru, għall-produzzjoni tar-riti fotoreżistenti li jintużaw fil-manifattura ta’ semikondutturi jew ċirkwiti stampati

马耳他语
Riti tal-polietilen, ta’ ħxuna ta’ 20 mikrometru jew iktar iżda li ma taqbiżx l-40 mikrometru, għall-produzzjoni tar-riti fotoreżistenti li jintużaw fil-manifattura ta’ semikondutturi jew ċirkwiti stampati
Folha de polietileno, de espessura igual ou superior a 20 micrómetros, mas não superior a 40 micrómetros, destinada à fabricação de filme fotorresistente para os semicondutores ou circuitos impressos

葡萄牙语
Folha de polietileno, de espessura igual ou superior a 20 micrómetros, mas não superior a 40 micrómetros, destinada à fabricação de filme fotorresistente para os semicondutores ou circuitos impressos
Polyetylenfilm, med en tjocklek av minst 20 mikrometer men högst 40 mikrometer, avsedd för framställning av fotoresistfilm som används vid tillverkning av halvledare eller tryckta kretsar

瑞典语
Polyetylenfilm, med en tjocklek av minst 20 mikrometer men högst 40 mikrometer, avsedd för framställning av fotoresistfilm som används vid tillverkning av halvledare eller tryckta kretsar
Polyetylénové filmy s hrúbkou 20 mikrometrov alebo viac, ale nepresahujúcou 40 mikrometrov, na výrobu svetlostálych filmov používaných pri výrobe polovodičov alebo tlačených obvodov

斯洛伐克语
Polyetylénové filmy s hrúbkou 20 mikrometrov alebo viac, ale nepresahujúcou 40 mikrometrov, na výrobu svetlostálych filmov používaných pri výrobe polovodičov alebo tlačených obvodov
polietilenski film debeline 20 μm ali več, vendar ne več kot 40 μm, za proizvodnjo fotoobstojnih filmov, ki se uporabljajo v proizvodnji polprevodnikov in tiskanih vezij

斯洛文尼亚语
polietilenski film debeline 20 μm ali več, vendar ne več kot 40 μm, za proizvodnjo fotoobstojnih filmov, ki se uporabljajo v proizvodnji polprevodnikov in tiskanih vezij
Φύλλο πολυαιθυλενίου με πάχος 20 μικρομέτρων ή περισσότερο αλλά που δεν υπερβαίνει τα 40 μικρόμετρα, για την κατασκευή φωτοανθεκτικών φιλμ για ημιαγωγούς ή τυπωμένα κυκλώματα

希腊语
Φύλλο πολυαιθυλενίου με πάχος 20 μικρομέτρων ή περισσότερο αλλά που δεν υπερβαίνει τα 40 μικρόμετρα, για την κατασκευή φωτοανθεκτικών φιλμ για ημιαγωγούς ή τυπωμένα κυκλώματα
Hojas de polietileno, de espesor superior o igual a 20 micrómetros pero inferior o igual a 40 micrómetros, destinadas a la fabricación de películas fotorresistentes para la producción de semiconductores o de circuitos impresos

西班牙语
Hojas de polietileno, de espesor superior o igual a 20 micrómetros pero inferior o igual a 40 micrómetros, destinadas a la fabricación de películas fotorresistentes para la producción de semiconductores o de circuitos impresos
Polietilén film, legalább 20, de legfeljebb 40 mikron vastagságú, félvezetők vagy nyomtatott áramkörök gyártásához használt fényérzékeny film gyártásához

匈牙利语
Polietilén film, legalább 20, de legfeljebb 40 mikron vastagságú, félvezetők vagy nyomtatott áramkörök gyártásához használt fényérzékeny film gyártásához
Polyethylene film, of a thickness of 20 micrometres or more but not exceeding 40 micrometres, for the production of photoresist film used in the manufacture of semiconductors or printed circuits

英语
Polyethylene film, of a thickness of 20 micrometres or more but not exceeding 40 micrometres, for the production of photoresist film used in the manufacture of semiconductors or printed circuits

URI

http://data.europa.eu/xsp/cn2024/392010230080

下载此概念

RDF/XML TURTLE JSON-LD

Skosmos

Sentier.dev Common Products Taxonomy adapted from Combined Nomenclature 2024

优选词，正式主题词

上位概念

其它语言

URI

下载此概念

{{label}}

Skosmos

Sentier.dev Common Products Taxonomy adapted from Combined Nomenclature 2024

Search from vocabulary

Sidebar listing: list and traverse vocabulary contents by a criterion

List vocabulary concepts alphabetically

List vocabulary concepts hierarchically

Listing vocabulary concepts alphabetically

Concept information

优选词，正式主题词

上位概念

其它语言

URI

下载此概念

{{label}}