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9031 41 00Para control de obleas («wafers») o dispositivos semiconductores (incluidos los circuitos integrados), o para control de máscaras fotográficas o retículas utilizadas en la fabricación de dispositivos semiconductores (incluidos los circuitos integrados)  

范围注释,叙词含义说明

  • Instrumentos, máquinas y aparatos ópticos, para control de obleas "wafers" o dispositivos, semiconductores o para control de máscaras o retículas utilizadas en la fabricación de dispositivos semiconductores

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URI

http://data.europa.eu/xsp/cn2024/903141000080

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