Перейти к основному содержанию

Информация о концепции

Предпочитаемый термин

3920 10 23Polyetylenfilm, med en tjocklek av minst 20 mikrometer men högst 40 mikrometer, avsedd för framställning av fotoresistfilm som används vid tillverkning av halvledare eller tryckta kretsar  

Концепция более широкого понятия

Термины

  • Polyetylenfilm, med en tjocklek av minst 20 mikrometer men högst 40 mikrometer, avsedd för framställning av fotoresistfilm som används vid tillverkning av halvledare eller tryckta kretsar

Примечание

  • Polyetenfilm, inte porösa, med en tjocklek av >= 20 mikrometer men <= 40 mikrometer och med en specifik vikt av < 0,94, avsedd för framställning av fotoresistfilm som används vid tillverkning av halvledare eller tryckta kretsar

Принадлежит к массиву

Идентификатор

  • 392010230080

На других языках

URI

http://data.europa.eu/xsp/cn2024/392010230080

Скачать концепцию