Информация о концепции
Предпочитаемый термин
3920 10 23polietilēna plēve ar biezumu 20 mikrometri vai vairāk, bet ne biezāka par 40 mikrometriem, fotorezistentu filmu izgatavošanai, kuras lieto pusvadītāju vai iespiedshēmu ražošanā
Концепция более широкого понятия
Термины
- polietilēna plēve ar biezumu 20 mikrometri vai vairāk, bet ne biezāka par 40 mikrometriem, fotorezistentu filmu izgatavošanai, kuras lieto pusvadītāju vai iespiedshēmu ražošanā
Принадлежит к массиву
Идентификатор
- 392010230080
На других языках
-
английский
-
Polyethylene film, of a thickness of 20 micrometres or more but not exceeding 40 micrometres, for the production of photoresist film used in the manufacture of semiconductors or printed circuits
-
болгарский
-
Полиетиленов лист, с дебелина 20 микрометра или повече, но непревишаваща 40 микрометра, предназначен за производство на фоторезистивни покрития за полупроводници или печатни платки
-
венгерский
-
Polietilén film, legalább 20, de legfeljebb 40 mikron vastagságú, félvezetők vagy nyomtatott áramkörök gyártásához használt fényérzékeny film gyártásához
-
греческий
-
Φύλλο πολυαιθυλενίου με πάχος 20 μικρομέτρων ή περισσότερο αλλά που δεν υπερβαίνει τα 40 μικρόμετρα, για την κατασκευή φωτοανθεκτικών φιλμ για ημιαγωγούς ή τυπωμένα κυκλώματα
-
датский
-
Polyethylenfolier af tykkelse 20 mikrometer og derover, men ikke over 40 mikrometer, til fremstilling af fotoresistfilm til fremstilling af halvledere eller trykte kredsløb
-
ирландский
-
Scannán poileitiléine atá ar tiús 20 micriméadar nó níos mó ach nach mó ná 40 micriméadar, ar mhaithe le táirgeadh scannáin fótafhriotaí a úsáidtear chun leathsheoltóirí nó ciorcaid phriontáilte a mhonarú
-
испанский
-
Hojas de polietileno, de espesor superior o igual a 20 micrómetros pero inferior o igual a 40 micrómetros, destinadas a la fabricación de películas fotorresistentes para la producción de semiconductores o de circuitos impresos
-
итальянский
-
Fogli di polietilene, di spessore di 20 micrometri o più ed uguale o inferiore a 40 micrometri, destinata alla fabbricazione di pellicole fotoresistenti per semiconduttori o per circuiti stampati
-
литовский
-
Polietileno plėvelė, kurios storis ne mažesnis kaip 20 mikrometrų, bet ne didesnis kaip 40 mikrometrų, skirta fotorezisto plėvelių, naudojamų puslaidininkių arba spausdintinių grandinių (schemų) gamybai
-
мальтийский
-
Riti tal-polietilen, ta’ ħxuna ta’ 20 mikrometru jew iktar iżda li ma taqbiżx l-40 mikrometru, għall-produzzjoni tar-riti fotoreżistenti li jintużaw fil-manifattura ta’ semikondutturi jew ċirkwiti stampati
-
немецкий
-
Polyethylenfolien mit einer Dicke von 20 Mikrometer bis 40 Mikrometer, zum Herstellen von Fotoresist-Filmen für die Halbleiterfertigung oder für gedruckte Schaltungen
-
нидерландский
-
foliën van polyethyleen met een dikte van 20 of meer doch niet meer dan 40 micrometer, bestemd voor de vervaardiging van fotoresistfilm gebruikt bij de productie van halfgeleiders of van gedrukte schakelingen
-
польский
-
Folia polietylenowa, o grubości 20 mikrometrów lub większej, ale nieprzekraczającej 40 mikrometrów, do produkcji folii fotoodpornych stosowanych do produkcji półprzewodników lub obwodów drukowanych
-
португальский
-
Folha de polietileno, de espessura igual ou superior a 20 micrómetros, mas não superior a 40 micrómetros, destinada à fabricação de filme fotorresistente para os semicondutores ou circuitos impressos
-
румынский
-
Pelicule de polietilenă cu o grosime de minimum 20 de microni, dar de maximum 40 de microni, pentru fabricarea peliculelor fotorezistente utilizate la fabricarea semiconductorilor sau a circuitelor imprimate
-
словацкий
-
Polyetylénové filmy s hrúbkou 20 mikrometrov alebo viac, ale nepresahujúcou 40 mikrometrov, na výrobu svetlostálych filmov používaných pri výrobe polovodičov alebo tlačených obvodov
-
словенский
-
polietilenski film debeline 20 μm ali več, vendar ne več kot 40 μm, za proizvodnjo fotoobstojnih filmov, ki se uporabljajo v proizvodnji polprevodnikov in tiskanih vezij
-
финский
-
polyeteenikalvot, joiden paksuus on vähintään 20 mutta enintään 40 mikrometriä, valonkestävän kalvon valmistamiseksi puolijohteisiin ja mikropiireihin
-
французский
-
Feuille en polyéthylène, d'une épaisseur de 20 micromètres ou plus mais n'excédant pas 40 micromètres, destinée à la fabrication de film photorésistant pour les semi-conducteurs ou des circuits imprimés
-
хорватский
-
polietilenski film, debljine 20 mikrometara ili veće, ali ne veće od 40 mikrometara, za proizvodnju foto-postojanog filma za uporabu u proizvodnji poluvodiča ili tiskanih krugova
-
чешский
-
Polyethylenové filmy o tloušťce 20 mikrometrů nebo větší, avšak nepřesahující 40 mikrometrů, k výrobě fotorezistivních filmů používaných pro výrobu polovodičů nebo desek plošných spojů
-
шведский
-
Polyetylenfilm, med en tjocklek av minst 20 mikrometer men högst 40 mikrometer, avsedd för framställning av fotoresistfilm som används vid tillverkning av halvledare eller tryckta kretsar
-
эстонский
-
polüetüleenkile paksusega vähemalt 20 mikromeetrit, kuid mitte üle 40 mikromeetri, pooljuhtide või trükkplaatide valmistamisel kasutatava valguskindla kile tootmiseks
URI
http://data.europa.eu/xsp/cn2024/392010230080
{{label}}
{{#each values }} {{! loop through ConceptPropertyValue objects }}
{{#if prefLabel }}
{{/if}}
{{/each}}
{{#if notation }}{{ notation }} {{/if}}{{ prefLabel }}
{{#ifDifferentLabelLang lang }} ({{ lang }}){{/ifDifferentLabelLang}}
{{#if vocabName }}
{{ vocabName }}
{{/if}}