per il controllo dei dischi (wafer) o dei dispositivi a semiconduttore (compresi i circuiti integrati) o per il controllo delle fotomaschere o dei reticoli destinati alla fabbricazione di dispositivi a semiconduttore (compresi i circuiti integrati)

za ispitivanje poluvodičkih pločica (wafera) ili poluvodičkih elemenata (uključujući integrirane krugove) ili za ispitivanje fotomaski ili mrežica koje se rabe u proizvodnji poluvodičkih elemenata (uključujući integrirane krugove)

pusvadītāju matriču vai ierīču (tostarp integrālo shēmu) pārbaudei vai tādu fotomasku vai rastra pārbaudei, ko izmanto pusvadītāju ierīču (tostarp integrālo shēmu) ražošanā

Puslaidininkių plokštelėms ar įtaisams (įskaitant integrinius grandynus) tikrinti arba puslaidininkinių įtaisų (įskaitant integrinius grandynus) gamyboje naudojamiems fotokaukėms arba fotooriginalų tinkleliams tikrinti

Biex jiġu spezzjonati l-wafers jew l-apparati semikondutturi (inkluż ċirkwiti integrati) jew biex jiġu spezzjonati l-fotomaskri jew ir-retikoli użati fil-manifattura tal-apparati semikondutturi (inkluż ċirkwiti integrati)

voor het verifiëren van halfgeleiderschijven of van halfgeleiderelementen (geïntegreerde schakelingen daaronder begrepen) of voor het verifiëren van fotomaskers of dradenkruisen gebruikt in de fabricage van halfgeleiderelementen (geïntegreerde schakelingen daaronder begrepen)

Do sprawdzania płytek lub urządzeń półprzewodnikowych (włączając układy scalone) lub do sprawdzania fotomasek lub siatek stosowanych do produkcji urządzeń półprzewodnikowych (włączając układy scalone)

Para controlo de wafers ou de dispositivos, semicondutores (incluindo os circuitos integrados), ou para controlo de fotomáscaras ou retículos utilizados na fabricação de dispositivos semicondutores (incluindo os circuitos integrados)

Pentru controlul discurilor sau al dispozitivelor cu semiconductor (inclusiv circuitele integrate) sau pentru controlul fotomăștilor sau al reticulelor utilizate în fabricarea dispozitivelor cu semiconductor (inclusiv circuitele integrate)

Na kontrolu polovodičových doštičiek alebo zariadení (vrátane integrovaných obvodov) alebo na kontrolu fotomasiek alebo ohniskových doštičiek používaných na výrobu polovodičových zariadení (vrátane integrovaných obvodov)

za nadzor polprevodniških rezin ali naprav (vključno integrirana vezja) ali za nadzor fotomask ali mrežic, ki se uporabljajo pri proizvodnji polprevodniških naprav (vključno integrirana vezja)

Para control de obleas («wafers») o dispositivos semiconductores (incluidos los circuitos integrados), o para control de máscaras fotográficas o retículas utilizadas en la fabricación de dispositivos semiconductores (incluidos los circuitos integrados)

För kontroll av halvledarplattor (wafers) eller halvledarkomponenter (även integrerade kretsar) eller för kontroll av sådana fotomasker eller hårkors som används vid tillverkning av halvledarkomponenter (även integrerade kretsar)

Na kontrolu polovodičových destiček nebo polovodičových zařízení (včetně integrovaných obvodů) nebo na kontrolu masek nebo ohniskových destiček používaných k výrobě polovodičových zařízení (včetně integrovaných obvodů)

zum Prüfen von Halbleiterscheiben (wafers) oder Halbleiterbauelementen (einschließlich integrierter Schaltungen) oder zum Prüfen von Fotomasken und Reticles für die Herstellung von Halbleiterbauelementen (einschließlich integrierter Schaltungen)

Félvezető lemez vagy eszköz (beleértve az integrált áramköröket is), vagy a félvezető eszközök (beleértve az integrált áramköröket is) gyártásához használatos fotomaszk vagy hajszálvonal-hálózatos lemez ellenőrzésére