Skosmos: Products: Hojas de polietileno, de espesor superior o igual a 20 micrómetros pero inferior o igual a 40 micrómetros, destinadas a la fabricación de películas fotorresistentes para la producción de semiconductores o de circuitos impresos

... > De polímeros de etileno > De espesor inferior o igual a 0,125 mm > De polietileno de densidad > Inferior a 0,94 > Hojas de polietileno, de espesor superior o igual a 20 micrómetros pero inferior o igual a 40 micrómetros, destinadas a la fabricación de películas fotorresistentes para la producción de semiconductores o de circuitos impresos

Terme préférentiel

3920 10 23Hojas de polietileno, de espesor superior o igual a 20 micrómetros pero inferior o igual a 40 micrómetros, destinadas a la fabricación de películas fotorresistentes para la producción de semiconductores o de circuitos impresos

Inferior a 0,94

Hojas de polietileno, de espesor superior o igual a 20 micrómetros pero inferior o igual a 40 micrómetros, destinadas a la fabricación de películas fotorresistentes para la producción de semiconductores o de circuitos impresos

Hojas de polietileno, sin reforzar, de espesor >= 20 micrómetros pero <= 40 micrómetros, de densidad < 0,94, destinadas a la fabricación de películas fotorresistentes para la producción de material semiconductor o de circuitos impresos

CN - Level 5 - CN subheadings (en)

Identifiant

392010230080

Polyethylenfolien mit einer Dicke von 20 Mikrometer bis 40 Mikrometer, zum Herstellen von Fotoresist-Filmen für die Halbleiterfertigung oder für gedruckte Schaltungen

allemand
Polyethylenfolien mit einer Dicke von 20 Mikrometer bis 40 Mikrometer, zum Herstellen von Fotoresist-Filmen für die Halbleiterfertigung oder für gedruckte Schaltungen
Polyethylene film, of a thickness of 20 micrometres or more but not exceeding 40 micrometres, for the production of photoresist film used in the manufacture of semiconductors or printed circuits

anglais
Polyethylene film, of a thickness of 20 micrometres or more but not exceeding 40 micrometres, for the production of photoresist film used in the manufacture of semiconductors or printed circuits
Полиетиленов лист, с дебелина 20 микрометра или повече, но непревишаваща 40 микрометра, предназначен за производство на фоторезистивни покрития за полупроводници или печатни платки

bulgare
Полиетиленов лист, с дебелина 20 микрометра или повече, но непревишаваща 40 микрометра, предназначен за производство на фоторезистивни покрития за полупроводници или печатни платки
polietilenski film, debljine 20 mikrometara ili veće, ali ne veće od 40 mikrometara, za proizvodnju foto-postojanog filma za uporabu u proizvodnji poluvodiča ili tiskanih krugova

croate
polietilenski film, debljine 20 mikrometara ili veće, ali ne veće od 40 mikrometara, za proizvodnju foto-postojanog filma za uporabu u proizvodnji poluvodiča ili tiskanih krugova
Polyethylenfolier af tykkelse 20 mikrometer og derover, men ikke over 40 mikrometer, til fremstilling af fotoresistfilm til fremstilling af halvledere eller trykte kredsløb

danois
Polyethylenfolier af tykkelse 20 mikrometer og derover, men ikke over 40 mikrometer, til fremstilling af fotoresistfilm til fremstilling af halvledere eller trykte kredsløb
polüetüleenkile paksusega vähemalt 20 mikromeetrit, kuid mitte üle 40 mikromeetri, pooljuhtide või trükkplaatide valmistamisel kasutatava valguskindla kile tootmiseks

estonien
polüetüleenkile paksusega vähemalt 20 mikromeetrit, kuid mitte üle 40 mikromeetri, pooljuhtide või trükkplaatide valmistamisel kasutatava valguskindla kile tootmiseks
polyeteenikalvot, joiden paksuus on vähintään 20 mutta enintään 40 mikrometriä, valonkestävän kalvon valmistamiseksi puolijohteisiin ja mikropiireihin

finnois
polyeteenikalvot, joiden paksuus on vähintään 20 mutta enintään 40 mikrometriä, valonkestävän kalvon valmistamiseksi puolijohteisiin ja mikropiireihin
Feuille en polyéthylène, d'une épaisseur de 20 micromètres ou plus mais n'excédant pas 40 micromètres, destinée à la fabrication de film photorésistant pour les semi-conducteurs ou des circuits imprimés

français
Feuille en polyéthylène, d'une épaisseur de 20 micromètres ou plus mais n'excédant pas 40 micromètres, destinée à la fabrication de film photorésistant pour les semi-conducteurs ou des circuits imprimés
Φύλλο πολυαιθυλενίου με πάχος 20 μικρομέτρων ή περισσότερο αλλά που δεν υπερβαίνει τα 40 μικρόμετρα, για την κατασκευή φωτοανθεκτικών φιλμ για ημιαγωγούς ή τυπωμένα κυκλώματα

grec
Φύλλο πολυαιθυλενίου με πάχος 20 μικρομέτρων ή περισσότερο αλλά που δεν υπερβαίνει τα 40 μικρόμετρα, για την κατασκευή φωτοανθεκτικών φιλμ για ημιαγωγούς ή τυπωμένα κυκλώματα
Polietilén film, legalább 20, de legfeljebb 40 mikron vastagságú, félvezetők vagy nyomtatott áramkörök gyártásához használt fényérzékeny film gyártásához

hongrois
Polietilén film, legalább 20, de legfeljebb 40 mikron vastagságú, félvezetők vagy nyomtatott áramkörök gyártásához használt fényérzékeny film gyártásához
Scannán poileitiléine atá ar tiús 20 micriméadar nó níos mó ach nach mó ná 40 micriméadar, ar mhaithe le táirgeadh scannáin fótafhriotaí a úsáidtear chun leathsheoltóirí nó ciorcaid phriontáilte a mhonarú

irlandais
Scannán poileitiléine atá ar tiús 20 micriméadar nó níos mó ach nach mó ná 40 micriméadar, ar mhaithe le táirgeadh scannáin fótafhriotaí a úsáidtear chun leathsheoltóirí nó ciorcaid phriontáilte a mhonarú
Fogli di polietilene, di spessore di 20 micrometri o più ed uguale o inferiore a 40 micrometri, destinata alla fabbricazione di pellicole fotoresistenti per semiconduttori o per circuiti stampati

italien
Fogli di polietilene, di spessore di 20 micrometri o più ed uguale o inferiore a 40 micrometri, destinata alla fabbricazione di pellicole fotoresistenti per semiconduttori o per circuiti stampati
polietilēna plēve ar biezumu 20 mikrometri vai vairāk, bet ne biezāka par 40 mikrometriem, fotorezistentu filmu izgatavošanai, kuras lieto pusvadītāju vai iespiedshēmu ražošanā

letton
polietilēna plēve ar biezumu 20 mikrometri vai vairāk, bet ne biezāka par 40 mikrometriem, fotorezistentu filmu izgatavošanai, kuras lieto pusvadītāju vai iespiedshēmu ražošanā
Polietileno plėvelė, kurios storis ne mažesnis kaip 20 mikrometrų, bet ne didesnis kaip 40 mikrometrų, skirta fotorezisto plėvelių, naudojamų puslaidininkių arba spausdintinių grandinių (schemų) gamybai

lituanien
Polietileno plėvelė, kurios storis ne mažesnis kaip 20 mikrometrų, bet ne didesnis kaip 40 mikrometrų, skirta fotorezisto plėvelių, naudojamų puslaidininkių arba spausdintinių grandinių (schemų) gamybai
Riti tal-polietilen, ta’ ħxuna ta’ 20 mikrometru jew iktar iżda li ma taqbiżx l-40 mikrometru, għall-produzzjoni tar-riti fotoreżistenti li jintużaw fil-manifattura ta’ semikondutturi jew ċirkwiti stampati

maltais
Riti tal-polietilen, ta’ ħxuna ta’ 20 mikrometru jew iktar iżda li ma taqbiżx l-40 mikrometru, għall-produzzjoni tar-riti fotoreżistenti li jintużaw fil-manifattura ta’ semikondutturi jew ċirkwiti stampati
foliën van polyethyleen met een dikte van 20 of meer doch niet meer dan 40 micrometer, bestemd voor de vervaardiging van fotoresistfilm gebruikt bij de productie van halfgeleiders of van gedrukte schakelingen

néerlandais
foliën van polyethyleen met een dikte van 20 of meer doch niet meer dan 40 micrometer, bestemd voor de vervaardiging van fotoresistfilm gebruikt bij de productie van halfgeleiders of van gedrukte schakelingen
Folia polietylenowa, o grubości 20 mikrometrów lub większej, ale nieprzekraczającej 40 mikrometrów, do produkcji folii fotoodpornych stosowanych do produkcji półprzewodników lub obwodów drukowanych

polonais
Folia polietylenowa, o grubości 20 mikrometrów lub większej, ale nieprzekraczającej 40 mikrometrów, do produkcji folii fotoodpornych stosowanych do produkcji półprzewodników lub obwodów drukowanych
Folha de polietileno, de espessura igual ou superior a 20 micrómetros, mas não superior a 40 micrómetros, destinada à fabricação de filme fotorresistente para os semicondutores ou circuitos impressos

portugais
Folha de polietileno, de espessura igual ou superior a 20 micrómetros, mas não superior a 40 micrómetros, destinada à fabricação de filme fotorresistente para os semicondutores ou circuitos impressos
Pelicule de polietilenă cu o grosime de minimum 20 de microni, dar de maximum 40 de microni, pentru fabricarea peliculelor fotorezistente utilizate la fabricarea semiconductorilor sau a circuitelor imprimate

roumain
Pelicule de polietilenă cu o grosime de minimum 20 de microni, dar de maximum 40 de microni, pentru fabricarea peliculelor fotorezistente utilizate la fabricarea semiconductorilor sau a circuitelor imprimate
Polyetylénové filmy s hrúbkou 20 mikrometrov alebo viac, ale nepresahujúcou 40 mikrometrov, na výrobu svetlostálych filmov používaných pri výrobe polovodičov alebo tlačených obvodov

slovaque
Polyetylénové filmy s hrúbkou 20 mikrometrov alebo viac, ale nepresahujúcou 40 mikrometrov, na výrobu svetlostálych filmov používaných pri výrobe polovodičov alebo tlačených obvodov
polietilenski film debeline 20 μm ali več, vendar ne več kot 40 μm, za proizvodnjo fotoobstojnih filmov, ki se uporabljajo v proizvodnji polprevodnikov in tiskanih vezij

slovène
polietilenski film debeline 20 μm ali več, vendar ne več kot 40 μm, za proizvodnjo fotoobstojnih filmov, ki se uporabljajo v proizvodnji polprevodnikov in tiskanih vezij
Polyetylenfilm, med en tjocklek av minst 20 mikrometer men högst 40 mikrometer, avsedd för framställning av fotoresistfilm som används vid tillverkning av halvledare eller tryckta kretsar

suédois
Polyetylenfilm, med en tjocklek av minst 20 mikrometer men högst 40 mikrometer, avsedd för framställning av fotoresistfilm som används vid tillverkning av halvledare eller tryckta kretsar
Polyethylenové filmy o tloušťce 20 mikrometrů nebo větší, avšak nepřesahující 40 mikrometrů, k výrobě fotorezistivních filmů používaných pro výrobu polovodičů nebo desek plošných spojů

tchèque
Polyethylenové filmy o tloušťce 20 mikrometrů nebo větší, avšak nepřesahující 40 mikrometrů, k výrobě fotorezistivních filmů používaných pro výrobu polovodičů nebo desek plošných spojů

URI

http://data.europa.eu/xsp/cn2024/392010230080

Télécharger ce concept :

RDF/XML TURTLE JSON-LD

Skosmos

Sentier.dev Common Products Taxonomy adapted from Combined Nomenclature 2024

Terme préférentiel

Concept générique

Variante

Note d'application

Appartient au tableau

Identifiant

Traductions

URI

Télécharger ce concept :

{{label}}

Skosmos

Sentier.dev Common Products Taxonomy adapted from Combined Nomenclature 2024

Choisissez le vocabulaire dans lequel chercher

Sidebar listing: list and traverse vocabulary contents by a criterion

Lister les concepts du vocabulaire par ordre alphabétique

Lister les concepts du vocabulaire par ordre hiérarchique

Liste des concepts du vocabulaire par ordre alphabétique

Concept information

Terme préférentiel

Concept générique

Variante

Note d'application

Appartient au tableau

Identifiant

Traductions

URI

Télécharger ce concept :

{{label}}