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Concept information

Terme préférentiel

3920 10 23Polyethylenfolien mit einer Dicke von 20 Mikrometer bis 40 Mikrometer, zum Herstellen von Fotoresist-Filmen für die Halbleiterfertigung oder für gedruckte Schaltungen  

Concept générique

Variante

  • Polyethylenfolien mit einer Dicke von 20 Mikrometer bis 40 Mikrometer, zum Herstellen von Fotoresist-Filmen für die Halbleiterfertigung oder für gedruckte Schaltungen

Note d'application

  • Polyethylenfolien, ungeschäumt, mit einer Dicke von 20 Mikrometer bis 40 Mikrometer und mit einer Dichte von < 0,94, zum Herstellen von Fotoresist-Filmen für die Halbleiterfertigung oder für gedruckte Schaltungen

Appartient au tableau

Identifiant

  • 392010230080

Traductions

URI

http://data.europa.eu/xsp/cn2024/392010230080

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