Hyppää sisältöön

Hae sanastosta

Sisällön kieli

Käsitteen tiedot

Käytettävä termi

3920 10 23Polyethylene film, of a thickness of 20 micrometres or more but not exceeding 40 micrometres, for the production of photoresist film used in the manufacture of semiconductors or printed circuits  

Yläkäsite

Ohjaustermit

  • Polyethylene film, of a thickness of 20 micrometres or more but not exceeding 40 micrometres, for the production of photoresist film used in the manufacture of semiconductors or printed circuits

Käyttöhuomautus

  • Non-cellular polyethylene film of a thickness of >= 20 micrometres but <= 40 micrometres, for the production of photoresist film used in the manufacture of semiconductors or printed circuits

Tunniste

  • 392010230080

Notaatio

  • 3920 10 23

Muunkieliset termit

URI

http://data.europa.eu/xsp/cn2024/392010230080

Lataa tämä käsite: