Skip to main content

Search from vocabulary

Content language

Concept information

Preferred term

3920 10 23Polyetylenfilm, med en tjocklek av minst 20 mikrometer men högst 40 mikrometer, avsedd för framställning av fotoresistfilm som används vid tillverkning av halvledare eller tryckta kretsar  

Broader concept

Entry terms

  • Polyetylenfilm, med en tjocklek av minst 20 mikrometer men högst 40 mikrometer, avsedd för framställning av fotoresistfilm som används vid tillverkning av halvledare eller tryckta kretsar

Scope note

  • Polyetenfilm, inte porösa, med en tjocklek av >= 20 mikrometer men <= 40 mikrometer och med en specifik vikt av < 0,94, avsedd för framställning av fotoresistfilm som används vid tillverkning av halvledare eller tryckta kretsar

Belongs to array

Identifier

  • 392010230080

Notation

  • 3920 10 23

In other languages

URI

http://data.europa.eu/xsp/cn2024/392010230080

Download this concept: